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ME-L全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀

簡要描述:ME-L是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀,凝聚了科研團隊在橢偏技術(shù)多年的投入,其采用行業(yè)前沿的創(chuàng)新技術(shù),包括消色差補償器、雙旋轉(zhuǎn)補償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等。可應用于半導體薄膜結(jié)構(gòu),半導體周期性納米結(jié)構(gòu),新材料,新物理現(xiàn)象研究,平板顯示,光伏太陽能,功能性涂料,生物和化學工程,塊狀材料分析以及各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學納米光柵常數(shù)以及一維/二維納米光柵材料結(jié)構(gòu)的表

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2019-02-15
  • 訪  問  量:3758

詳細介紹

價格區(qū)間面議產(chǎn)地類別國產(chǎn)

 

產(chǎn)品型號

ME-L全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀

主要特點

1、采用氘燈和鹵素燈復合光源,光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)

2、可實現(xiàn)穆勒矩陣數(shù)據(jù)處理,測量信息量更大,測量速度快、數(shù)據(jù)更加精準

3、基于雙旋轉(zhuǎn)補償器配置,可一次測量獲得全部穆勒矩陣的16個元素,相對傳統(tǒng)光譜橢偏儀可獲取更加豐富全面的測量信息

4、確保在寬光譜范圍內(nèi),提供優(yōu)質(zhì)穩(wěn)定的各波段光譜

5、數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫,涵蓋了目前絕大部分的光電材料

6、集成對納米光柵的分析,可同時測量分析納米結(jié)構(gòu)周期、線寬、線高、側(cè)壁角、粗糙度等幾何形貌信息

技術(shù)參數(shù)

1、應用:科研級/企業(yè)級

2、基本功能:Psi/Delta、R/T、穆勒矩陣等光譜

3、分析光譜:380-1000nm(支持擴展至210-1650nm)

4、單次測量時間:1-8s

5、重復性測量精度:0.005nm

6、精度(直通測量空氣)

  橢偏參數(shù):ψ=45±0.05°△=0±0.1°

  穆勒矩陣:對角元素m=1±0.005;非對角元素m=0±0.005

7、光斑大小:大光斑2-3mm;微光斑200μm

可選配置

波段選擇

V:380-1000nm

UV:245-1000nm

XN:210-1650nm

DN+:193-2500nm

角度選擇

自動:45-90°

手動:55-75°(5°步進),90°

固定:65°

其他選擇

Mapping選擇:100×100mm(供參考,按需定制)

溫控臺:室溫一600C(供參考,按需定制)

可選配件

1

溫控臺

 

2

Mapping擴展模塊

 

3

真空泵

 

4

透射吸附組件

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